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大功率半导体激光芯片清洗

为保证半导体器件高可靠性、稳定性和使用的寿命，提升半导体产品成品率，避免污染物污染而造成电路失效，需要对半导芯片上的灰尘等残留物清洗。

目前普遍使用的是液态二氧化碳清洗工艺，通过液态二氧化碳的低温特性，可以高效清洗大功率半导体芯片上的灰尘。

为保

证半导体器件高可靠性、稳定性和使用的寿命，提升半导体产品成品率，避免污染物污染而造成电路失效，需要对半导芯片上的灰尘等残留物清洗。

目前普遍使用的是液态二氧化碳清洗工艺，通过液态二氧化碳的低温特性，可以高效清洗大功率半导体芯片上的灰尘。